第206章 芯谷厂房突发静电事故
重回1990：我的科技强国路 作者:佚名
第206章 芯谷厂房突发静电事故
梁志远正在工艺监控室里审核下个月的產能计划。屏幕上，代表各机台状態的图標整齐排列：绿色是正常运行，黄色是计划维护，红色是异常停机。过去一周，这条斥资数十亿打造的產线运行平稳，量產良率缓慢但坚定地爬升到了71.2%，距离75%的成本线又近了一步。
窗外，洁净室的走廊里，身著无尘服的技术人员安静地穿行。巨大的黄色机械臂平稳地將晶圆盒从一台设备传送到另一台设备，整个流程如精密钟錶般有序。墙壁上的环境监控屏显示著各项指標：温度22.3c±0.1c，湿度42%±1%，静电电压＜10伏，粒子计数0.1微米以上每立方米小於1个，这是半导体製造的最高洁净標准。
一切都那么完美，完美得让梁志远心里隱隱不安。在晶片製造行业待了二十年，他深知这种平静往往是暴风雨的前兆。特別是三天前林薇从宝岛发回的那份关於电磁环境扰动的简报，让他要求工程师们对所有敏感设备进行了额外屏蔽检查。
但检查结果显示一切正常。
“梁工，euv曝光区三號机台的预防性维护完成。”对讲机里传来设备工程师的声音，“校准数据全部通过，可以恢復生產。”
“批准恢復。”梁志远回应，“先跑两个批次的监控片，確认工艺窗口稳定。”
“明白。”
梁志远的目光落在监控屏的一角，那里是“追光二期”euv光源的长稳测试数据曲线。经过九天运行，稳定度保持在97.8%到98.2%之间波动，完全满足14nm工艺需求。金秉洙团队的那个“带电作业”方案，虽然听起来惊险，但实际效果出奇地好。
也许是自己多虑了。梁志远端起桌上的保温杯，喝了一口浓茶。茶叶是林薇上次从宝岛带回来的高山乌龙，香气清冽。
就在茶水滑过喉咙的瞬间，监控室里的主照明灯突然闪烁了一下。
很轻微的一闪，持续时间不到0.1秒，如果不是梁志远正对著光源，几乎不会察觉。但就是这一闪，让他的心猛地一沉。
“电力监控，报告情况！”他立即抓起对讲机。
“配电系统正常，各迴路电压波动在±1%以內，符合標准。”电力工程师的回答很快传来，“可能是照明电路的老化接触问题，已记录，会后检查。”
梁志远没有放鬆警惕。他调出全厂区的电力质量监测数据流，一屏屏地扫过。三相电压平衡度、谐波含量、频率稳定性……所有指標都在绿色范围內。
但就在他准备关掉监控页面时，一个不起眼的参数引起了他的注意，零线电流。
在理想的三相平衡系统中，零线电流应该接近於零。但此刻，监控显示零线电流达到了相线电流的8%，並且以每秒约0.2%的速度缓慢上升。
“电力组，立即检查全厂接地系统！”梁志远的命令还没说完，第二件事发生了。
监控屏幕上，代表14nm量產线关键区域的粒子计数器，突然从绿色跳成了黄色，然后迅速转红。
“警报！光刻区粒子计数超標！0.1微米以上颗粒物浓度达到每立方米50个！已超过工艺標准500倍！”
几乎在同一时间，多个区域的报警蜂鸣器同时响起：
“离子注入区三號机台真空度异常下降！”
“化学机械拋光区研磨液流量波动！”
“薄膜沉积区温控系统振盪！”
梁志远从椅子上弹起来，衝到总控台前。屏幕上，几十个报警图標像被点燃的鞭炮一样接连炸开。但最让他心惊的，是euv曝光区的监控画面，
在高速摄像机的捕捉下，可以看到三號euv光刻机的投影镜头下方，几片肉眼几乎看不见的微尘，正违反物理规律般悬浮在空中，然后缓缓飘向镜头表面！
静电。这是静电吸附现象。
“全厂静电监测！”梁志远吼道。
监控画面切换到静电电压分布图。在正常的半导体工厂，由於严格的防静电措施，任何区域的静电电压都应该控制在100伏以下。但此刻，分布图上出现了三个醒目的红色热点，
一个是euv曝光区，静电电压达到3200伏；
一个是晶圆传送走廊，静电电压2800伏；
最严重的是设备维护区，静电电压突破了5000伏，而且还在持续上升！
“启动紧急静电泄放程序！”梁志远的声音在广播系统中响起，“所有人员立即停止作业，接触接地桩！设备组，立即切断非必要电源，防止静电放电损坏！”
但他的命令还是晚了一步。
在euv曝光区，悬浮的微尘中，有一片直径约0.3微米的二氧化硅颗粒，在强静电场的驱动下，最终吸附在了投影镜头最关键的中心区域。
就在此刻，euv光源的一次曝光脉衝抵达。
13.5nm的极紫外光，以极高的能量密度照射在镜头表面。那片二氧化硅颗粒瞬间被加热到数千摄氏度，汽化、电离，在镜头表面留下了一个微小的、但足以毁掉整个镜组的灼伤点。
“euv三號机台曝光剂量异常！”操作员的声音带著惊恐，“镜头传输率下降12%！自动保护停机！”
一台价值近亿美元的光刻机，就这样在几秒钟內被损坏了关键光学部件。
但这还不是最糟的。
在晶圆传送走廊，强静电场导致一台晶圆搬运机器人的伺服电机驱动器发生內部放电。虽然驱动器有防静电设计，但5000伏的电压超出了设计极限。
驱动器短路，机器人失控。
机械臂以最大加速度挥出，撞击在传送轨道上。正在传送的十二片已完成前道工序、价值数百万美元的14nm晶圆，连带著特製的晶圆盒，从三米高的空中坠落。
晶圆盒在撞击地面的瞬间裂开，十二片晶圆像被推倒的多米诺骨牌一样滑出，在洁净室地板上碎裂、刮擦、污染。
“不！”监控室里有人发出一声痛苦的呻吟。
梁志远强迫自己冷静。损失已经发生，现在要做的是止损。
“设备组，立即在所有静电热点区域安装临时接地线！环境组，启动紧急空气净化，粒子浓度必须在十分钟內恢復正常！生產计划组，重新编排后续批次，评估延误影响！”
命令一条条下达。训练有素的团队开始行动。临时接地线像蛛网一样在厂房內铺设，大功率的空气净化系统全速运转，工程师们穿著无尘服衝进事故区域，开始抢救还能挽救的设备。
但梁志远知道，真正的损失已经无法挽回。那台euv光刻机的镜头损伤，至少需要三个月的时间来修復或更换。十二片14nm晶圆的报废，直接经济损失超过两千万。更重要的是，量產进度將因此延误至少一个月，而“深红路线图”的时间表不会等待。
他拿起加密电话，拨通了陈醒的號码。电话只响了一声就被接通。
“我在监控室看到了。”陈醒的声音异常平静，“人员伤亡？”
“没有。所有人员在警报后立即疏散，只有设备损坏和晶圆损失。”
“原因？”
“强静电场，具体来源还在排查。”梁志远顿了顿，“但陈总，有些情况不正常。静电电压在几分钟內从正常值飆升到五千伏，这不符合任何已知的故障模式。而且……它似乎是从多个点同时產生的，就像整个厂房的接地系统突然失效了。”
电话那头沉默了几秒。
“金秉洙博士在吗？”陈醒问。
“在euv光源实验室，我这就接过去。”
视频会议系统开启。金秉洙的脸出现在屏幕上，背景是“追光二期”的监控界面。
“金博士，你们的euv光源系统刚才有没有异常？”梁志远直接问。
金秉洙的脸色很不好看：“有。在静电事故发生的同一时刻，『追光二期』记录到一次强烈的电磁脉衝干扰。不是来自设备內部，而是外部耦合进来的。我们的『起搏器』电极放电电流因此波动了15%，但控制系统及时稳住了。”
“外部电磁脉衝……”梁志远喃喃道，“林总在宝岛发现的电磁扰动？”
“可能，但强度不对。”金秉洙调出数据，“这次干扰的场强比之前监测到的高出两个数量级。而且频率特徵也不同，更像是……人为的。”
这个词让监控室里的空气凝固了。
“人为？”陈醒的声音传来。
“我不敢肯定。”金秉洙谨慎地说，“但干扰的波形有很强的规律性，像是某种调製信號。自然界的电磁扰动通常是隨机的。”
梁志远立即调出全厂区的电磁环境监测数据。在事故发生的精確时刻，频谱图上出现了一个明显的尖峰，频率在1.2兆赫兹左右，正是林薇在宝岛发现的那个频率。
但这一次，尖峰的强度高了近百倍。
“陈总，我需要立即进行两件事。”梁志远说，“第一，全面检查全厂接地和防静电系统；第二，对这次电磁干扰事件进行溯源分析。”
“批准。”陈醒的回应简洁有力，“让章晴加入分析团队。另外，事故消息严格控制，对外只说设备故障需要检修。量產计划调整方案，两小时內给我。”
通话结束。梁志远开始组织事故调查组。但他不知道的是，在华夏芯谷三公里外的一栋普通写字楼里，一个偽装成通信基站维护车的设备刚刚关闭。
车厢內，两名技术人员正在拆卸一台高频电磁发射器。
“数据採集完成。”较年轻的技术员看著屏幕上的波形图，“目標厂房的电磁屏蔽效能、接地系统响应特性、关键设备的电磁敏感性……所有参数都拿到了。”
年长的技术员小心地將发射器核心部件拆下，装入特製的防护箱：“频率1.2兆赫兹，脉衝调製，峰值场强每米50伏。这个强度足够激发任何处於临界状態的静电积累，但又不会留下明显的破坏痕跡。”
“他们能发现是外部干扰吗？”
“发现又如何？”年长的技术员拉上防护箱的拉链，“电磁环境复杂，干扰源千千万万，可能是隔壁工厂的设备，可能是无线电爱好者，甚至可能是太阳黑子活动。没有直接证据，他们什么也证明不了。”
“但那台euv光刻机坏了，晶圆也报废了。”
“这正是目的。”年长的技术员启动车辆，“让他们知道，即使有了自己的晶片工厂，即使掌握了14nm工艺，依然脆弱得不堪一击。一次『意外』的静电事故，就能让整个產线停摆一个月。”
车子缓缓驶离。在他们身后，华夏芯谷的厂房在夕阳下矗立，安静得仿佛什么也没发生。
但厂房內，梁志远正面临著更棘手的问题。
事故调查组在检查接地系统时发现了一个令人费解的现象：全厂的主接地网电阻完全正常，符合0.5欧姆的设计標准。但接地网上各个点的电位却不一致，有些点之间存在著高达十几伏的电位差。
“这不可能。”接地系统工程师反覆测量，“接地网应该是等电位的，除非……”
“除非有外部电流注入。”章晴的声音从对讲机里传来。她此刻正在数据分析室，面前是事故前后全厂区的所有监控数据。
“梁工，我调取了事故前半小时的电力监控数据。”章晴的声音带著发现线索的兴奋，“发现了一个奇怪的现象：在静电电压开始上升前约五分钟，全厂所有三相负载的电流都出现了微小的、同步的相位偏移。”
“相位偏移？多大？”
“平均0.3度，持续约两秒，然后恢復正常。”章晴说，“这种偏移会导致三相系统的不平衡度增加，从而在零线上產生额外的谐波电流。而谐波电流如果通过接地系统泄放……”
“就会在接地网上產生电位差！”梁志远明白了，“而电位差就是驱动静电积累的源头。但什么原因会导致全厂所有负载同步发生相位偏移？”
章晴停顿了一下：“外部电网的扰动？还是……某种针对性的电磁干扰，直接耦合进了我们的供电系统？”
这个推测太大胆，但梁志远无法反驳。所有的线索都指向同一个方向：这不是一次简单的设备故障或操作失误，而是一次精心策划的、利用电磁物理原理进行的隱蔽攻击。
攻击者甚至不需要进入厂房，不需要接触任何设备。他们只需要在合適的时间、合適的地点，发射一束合適频率的电磁波。
而华夏芯谷，这个代表著中国半导体自主化最高成就的工厂，就这样在无声无息中，遭受了重创。
梁志远走到窗前。外面，应急维修团队正在忙碌，被损毁的设备部件被小心翼翼地运出，新的备件正在运入。但每个人脸上都带著沉重的表情。
他知道，今晚很多人將无法入眠。而他需要做的，不仅是修復设备，更是要找出防御这种新型威胁的方法。
因为如果对方可以发动一次攻击，就可以发动第二次。
而“深红路线图”上的每一个时间节点，都承受不起第二次这样的“意外”。
夜幕降临，华夏芯谷的灯光亮起。在最大的那栋厂房外墙上，未来科技的標誌在夜色中静静发光。那是一个由晶片图案和星辰轨跡组合成的標誌，象徵著从微观到宏观的科技征途。
但今夜，在这星辰之下，一场没有硝烟的战爭，已经悄然打响。
而在数据分析室里，章晴正对著电脑屏幕上那些复杂的波形图，眉头紧锁。在她的良率建模软体中，一个新的变量被加入了模型：外部电磁干扰强度。
软体开始重新计算。进度条缓慢移动，而结果预测显示，如果这种干扰持续存在，14nm量產的长期良率將永远无法突破75%的生死线。
她需要一个新的模型，一个能够应对不確定性的、动態的、自適应的製造过程控制模型。
第206章 芯谷厂房突发静电事故
梁志远正在工艺监控室里审核下个月的產能计划。屏幕上，代表各机台状態的图標整齐排列：绿色是正常运行，黄色是计划维护，红色是异常停机。过去一周，这条斥资数十亿打造的產线运行平稳，量產良率缓慢但坚定地爬升到了71.2%，距离75%的成本线又近了一步。
窗外，洁净室的走廊里，身著无尘服的技术人员安静地穿行。巨大的黄色机械臂平稳地將晶圆盒从一台设备传送到另一台设备，整个流程如精密钟錶般有序。墙壁上的环境监控屏显示著各项指標：温度22.3c±0.1c，湿度42%±1%，静电电压＜10伏，粒子计数0.1微米以上每立方米小於1个，这是半导体製造的最高洁净標准。
一切都那么完美，完美得让梁志远心里隱隱不安。在晶片製造行业待了二十年，他深知这种平静往往是暴风雨的前兆。特別是三天前林薇从宝岛发回的那份关於电磁环境扰动的简报，让他要求工程师们对所有敏感设备进行了额外屏蔽检查。
但检查结果显示一切正常。
“梁工，euv曝光区三號机台的预防性维护完成。”对讲机里传来设备工程师的声音，“校准数据全部通过，可以恢復生產。”
“批准恢復。”梁志远回应，“先跑两个批次的监控片，確认工艺窗口稳定。”
“明白。”
梁志远的目光落在监控屏的一角，那里是“追光二期”euv光源的长稳测试数据曲线。经过九天运行，稳定度保持在97.8%到98.2%之间波动，完全满足14nm工艺需求。金秉洙团队的那个“带电作业”方案，虽然听起来惊险，但实际效果出奇地好。
也许是自己多虑了。梁志远端起桌上的保温杯，喝了一口浓茶。茶叶是林薇上次从宝岛带回来的高山乌龙，香气清冽。
就在茶水滑过喉咙的瞬间，监控室里的主照明灯突然闪烁了一下。
很轻微的一闪，持续时间不到0.1秒，如果不是梁志远正对著光源，几乎不会察觉。但就是这一闪，让他的心猛地一沉。
“电力监控，报告情况！”他立即抓起对讲机。
“配电系统正常，各迴路电压波动在±1%以內，符合標准。”电力工程师的回答很快传来，“可能是照明电路的老化接触问题，已记录，会后检查。”
梁志远没有放鬆警惕。他调出全厂区的电力质量监测数据流，一屏屏地扫过。三相电压平衡度、谐波含量、频率稳定性……所有指標都在绿色范围內。
但就在他准备关掉监控页面时，一个不起眼的参数引起了他的注意，零线电流。
在理想的三相平衡系统中，零线电流应该接近於零。但此刻，监控显示零线电流达到了相线电流的8%，並且以每秒约0.2%的速度缓慢上升。
“电力组，立即检查全厂接地系统！”梁志远的命令还没说完，第二件事发生了。
监控屏幕上，代表14nm量產线关键区域的粒子计数器，突然从绿色跳成了黄色，然后迅速转红。
“警报！光刻区粒子计数超標！0.1微米以上颗粒物浓度达到每立方米50个！已超过工艺標准500倍！”
几乎在同一时间，多个区域的报警蜂鸣器同时响起：
“离子注入区三號机台真空度异常下降！”
“化学机械拋光区研磨液流量波动！”
“薄膜沉积区温控系统振盪！”
梁志远从椅子上弹起来，衝到总控台前。屏幕上，几十个报警图標像被点燃的鞭炮一样接连炸开。但最让他心惊的，是euv曝光区的监控画面，
在高速摄像机的捕捉下，可以看到三號euv光刻机的投影镜头下方，几片肉眼几乎看不见的微尘，正违反物理规律般悬浮在空中，然后缓缓飘向镜头表面！
静电。这是静电吸附现象。
“全厂静电监测！”梁志远吼道。
监控画面切换到静电电压分布图。在正常的半导体工厂，由於严格的防静电措施，任何区域的静电电压都应该控制在100伏以下。但此刻，分布图上出现了三个醒目的红色热点，
一个是euv曝光区，静电电压达到3200伏；
一个是晶圆传送走廊，静电电压2800伏；
最严重的是设备维护区，静电电压突破了5000伏，而且还在持续上升！
“启动紧急静电泄放程序！”梁志远的声音在广播系统中响起，“所有人员立即停止作业，接触接地桩！设备组，立即切断非必要电源，防止静电放电损坏！”
但他的命令还是晚了一步。
在euv曝光区，悬浮的微尘中，有一片直径约0.3微米的二氧化硅颗粒，在强静电场的驱动下，最终吸附在了投影镜头最关键的中心区域。
就在此刻，euv光源的一次曝光脉衝抵达。
13.5nm的极紫外光，以极高的能量密度照射在镜头表面。那片二氧化硅颗粒瞬间被加热到数千摄氏度，汽化、电离，在镜头表面留下了一个微小的、但足以毁掉整个镜组的灼伤点。
“euv三號机台曝光剂量异常！”操作员的声音带著惊恐，“镜头传输率下降12%！自动保护停机！”
一台价值近亿美元的光刻机，就这样在几秒钟內被损坏了关键光学部件。
但这还不是最糟的。
在晶圆传送走廊，强静电场导致一台晶圆搬运机器人的伺服电机驱动器发生內部放电。虽然驱动器有防静电设计，但5000伏的电压超出了设计极限。
驱动器短路，机器人失控。
机械臂以最大加速度挥出，撞击在传送轨道上。正在传送的十二片已完成前道工序、价值数百万美元的14nm晶圆，连带著特製的晶圆盒，从三米高的空中坠落。
晶圆盒在撞击地面的瞬间裂开，十二片晶圆像被推倒的多米诺骨牌一样滑出，在洁净室地板上碎裂、刮擦、污染。
“不！”监控室里有人发出一声痛苦的呻吟。
梁志远强迫自己冷静。损失已经发生，现在要做的是止损。
“设备组，立即在所有静电热点区域安装临时接地线！环境组，启动紧急空气净化，粒子浓度必须在十分钟內恢復正常！生產计划组，重新编排后续批次，评估延误影响！”
命令一条条下达。训练有素的团队开始行动。临时接地线像蛛网一样在厂房內铺设，大功率的空气净化系统全速运转，工程师们穿著无尘服衝进事故区域，开始抢救还能挽救的设备。
但梁志远知道，真正的损失已经无法挽回。那台euv光刻机的镜头损伤，至少需要三个月的时间来修復或更换。十二片14nm晶圆的报废，直接经济损失超过两千万。更重要的是，量產进度將因此延误至少一个月，而“深红路线图”的时间表不会等待。
他拿起加密电话，拨通了陈醒的號码。电话只响了一声就被接通。
“我在监控室看到了。”陈醒的声音异常平静，“人员伤亡？”
“没有。所有人员在警报后立即疏散，只有设备损坏和晶圆损失。”
“原因？”
“强静电场，具体来源还在排查。”梁志远顿了顿，“但陈总，有些情况不正常。静电电压在几分钟內从正常值飆升到五千伏，这不符合任何已知的故障模式。而且……它似乎是从多个点同时產生的，就像整个厂房的接地系统突然失效了。”
电话那头沉默了几秒。
“金秉洙博士在吗？”陈醒问。
“在euv光源实验室，我这就接过去。”
视频会议系统开启。金秉洙的脸出现在屏幕上，背景是“追光二期”的监控界面。
“金博士，你们的euv光源系统刚才有没有异常？”梁志远直接问。
金秉洙的脸色很不好看：“有。在静电事故发生的同一时刻，『追光二期』记录到一次强烈的电磁脉衝干扰。不是来自设备內部，而是外部耦合进来的。我们的『起搏器』电极放电电流因此波动了15%，但控制系统及时稳住了。”
“外部电磁脉衝……”梁志远喃喃道，“林总在宝岛发现的电磁扰动？”
“可能，但强度不对。”金秉洙调出数据，“这次干扰的场强比之前监测到的高出两个数量级。而且频率特徵也不同，更像是……人为的。”
这个词让监控室里的空气凝固了。
“人为？”陈醒的声音传来。
“我不敢肯定。”金秉洙谨慎地说，“但干扰的波形有很强的规律性，像是某种调製信號。自然界的电磁扰动通常是隨机的。”
梁志远立即调出全厂区的电磁环境监测数据。在事故发生的精確时刻，频谱图上出现了一个明显的尖峰，频率在1.2兆赫兹左右，正是林薇在宝岛发现的那个频率。
但这一次，尖峰的强度高了近百倍。
“陈总，我需要立即进行两件事。”梁志远说，“第一，全面检查全厂接地和防静电系统；第二，对这次电磁干扰事件进行溯源分析。”
“批准。”陈醒的回应简洁有力，“让章晴加入分析团队。另外，事故消息严格控制，对外只说设备故障需要检修。量產计划调整方案，两小时內给我。”
通话结束。梁志远开始组织事故调查组。但他不知道的是，在华夏芯谷三公里外的一栋普通写字楼里，一个偽装成通信基站维护车的设备刚刚关闭。
车厢內，两名技术人员正在拆卸一台高频电磁发射器。
“数据採集完成。”较年轻的技术员看著屏幕上的波形图，“目標厂房的电磁屏蔽效能、接地系统响应特性、关键设备的电磁敏感性……所有参数都拿到了。”
年长的技术员小心地將发射器核心部件拆下，装入特製的防护箱：“频率1.2兆赫兹，脉衝调製，峰值场强每米50伏。这个强度足够激发任何处於临界状態的静电积累，但又不会留下明显的破坏痕跡。”
“他们能发现是外部干扰吗？”
“发现又如何？”年长的技术员拉上防护箱的拉链，“电磁环境复杂，干扰源千千万万，可能是隔壁工厂的设备，可能是无线电爱好者，甚至可能是太阳黑子活动。没有直接证据，他们什么也证明不了。”
“但那台euv光刻机坏了，晶圆也报废了。”
“这正是目的。”年长的技术员启动车辆，“让他们知道，即使有了自己的晶片工厂，即使掌握了14nm工艺，依然脆弱得不堪一击。一次『意外』的静电事故，就能让整个產线停摆一个月。”
车子缓缓驶离。在他们身后，华夏芯谷的厂房在夕阳下矗立，安静得仿佛什么也没发生。
但厂房內，梁志远正面临著更棘手的问题。
事故调查组在检查接地系统时发现了一个令人费解的现象：全厂的主接地网电阻完全正常，符合0.5欧姆的设计標准。但接地网上各个点的电位却不一致，有些点之间存在著高达十几伏的电位差。
“这不可能。”接地系统工程师反覆测量，“接地网应该是等电位的，除非……”
“除非有外部电流注入。”章晴的声音从对讲机里传来。她此刻正在数据分析室，面前是事故前后全厂区的所有监控数据。
“梁工，我调取了事故前半小时的电力监控数据。”章晴的声音带著发现线索的兴奋，“发现了一个奇怪的现象：在静电电压开始上升前约五分钟，全厂所有三相负载的电流都出现了微小的、同步的相位偏移。”
“相位偏移？多大？”
“平均0.3度，持续约两秒，然后恢復正常。”章晴说，“这种偏移会导致三相系统的不平衡度增加，从而在零线上產生额外的谐波电流。而谐波电流如果通过接地系统泄放……”
“就会在接地网上產生电位差！”梁志远明白了，“而电位差就是驱动静电积累的源头。但什么原因会导致全厂所有负载同步发生相位偏移？”
章晴停顿了一下：“外部电网的扰动？还是……某种针对性的电磁干扰，直接耦合进了我们的供电系统？”
这个推测太大胆，但梁志远无法反驳。所有的线索都指向同一个方向：这不是一次简单的设备故障或操作失误，而是一次精心策划的、利用电磁物理原理进行的隱蔽攻击。
攻击者甚至不需要进入厂房，不需要接触任何设备。他们只需要在合適的时间、合適的地点，发射一束合適频率的电磁波。
而华夏芯谷，这个代表著中国半导体自主化最高成就的工厂，就这样在无声无息中，遭受了重创。
梁志远走到窗前。外面，应急维修团队正在忙碌，被损毁的设备部件被小心翼翼地运出，新的备件正在运入。但每个人脸上都带著沉重的表情。
他知道，今晚很多人將无法入眠。而他需要做的，不仅是修復设备，更是要找出防御这种新型威胁的方法。
因为如果对方可以发动一次攻击，就可以发动第二次。
而“深红路线图”上的每一个时间节点，都承受不起第二次这样的“意外”。
夜幕降临，华夏芯谷的灯光亮起。在最大的那栋厂房外墙上，未来科技的標誌在夜色中静静发光。那是一个由晶片图案和星辰轨跡组合成的標誌，象徵著从微观到宏观的科技征途。
但今夜，在这星辰之下，一场没有硝烟的战爭，已经悄然打响。
而在数据分析室里，章晴正对著电脑屏幕上那些复杂的波形图，眉头紧锁。在她的良率建模软体中，一个新的变量被加入了模型：外部电磁干扰强度。
软体开始重新计算。进度条缓慢移动，而结果预测显示，如果这种干扰持续存在，14nm量產的长期良率將永远无法突破75%的生死线。
她需要一个新的模型，一个能够应对不確定性的、动態的、自適应的製造过程控制模型。