第90章 技术討论，集成电路进展
第90章 技术討论，集成电路进展
热闹过后，生活很快又归於平静。
微型计算机的研发工作已经紧锣密鼓的展开，推进速度比徐卫国预估的还要快。
原因很简单，团队成员都是新人，没有成绩，想获得认可，工作时自然就比其他人更拼一些。
而且他们基本都还没成家，住宿舍，下班之后也经常在一块討论技术问题。
这天上午，徐卫国来到实验室，先召集团队成员开早会，討论接下来的工作內容。这样的会议平均一周开一次，跟打怪升级似的，闯过一关，然后討论下一关怎么走。
徐卫国拿著一份整理好的文件，说道：“还是前几天的那几个问题，你们想了这么久，不能继续拖下去了。今天我们就来逐一討论。
首先是內存问题，因为字库占据了大部分內存，剩下的內存空间很紧张，而做图形界面的话，位图显示也是占內存的大户。怎么解决，大家都说一下吧！”
停顿了片刻，有人说道：“要不继续增加存储晶片？”
“这不行，七块存储晶片已经接近临界点，再继续增加，可靠性就没办法再保证了，故障率会大幅上升。而且每增加一块存储晶片，电路设计复杂度也会指数级上升，维护起来太难了。”
“开源不行，那就只能节流了！”
“这也很难————”
会议室里的眾人陷入沉默。所有人都在绞尽脑汁的想法子，虽然他们已经思考了好些天，多数人都没有思路，但如今临到跟前还是要努力一把。
这时，一个青年举手，说道：“我有个办法，不知道可行不可行。”
话落，他特意停顿了一下。
眾人心里直骂娘，说话真不爽快！
那青年清了清嗓子，缓声道：“咱们能不能设计专用的显示控制器？充许其直接访问显示內存来提升利用效率？”
“哎？————我看可行。”
被他这么一说，其他人的思路也瞬间打开。
“不只如此，我看还可以尝试让微处理器跟显示控制器共享同一块內存。”
“怎么说？”
“就是把显示区域划定在內存中的一个固定区域，就叫帧缓衝区吧，微处理器直接向该区域写入数据即可更新屏幕。”
“嗯，好办法！”
这时，徐卫国开口道：“对这个方案，谁有问题吗？”
没人说话。
“那就按这个方案执行。好，下面说第二个问题，是作业系统与软体架构方面的。图形界面的窗口管理、事件处理跟图形绘製，这些怎么实现？此外，我们需要提供图形编程接口供应用程式调用，这个要怎么做？”
又是一阵沉默后，有人试著说道：“能不能在命令行系统基础上打补丁？增加图形层？”
立刻有人反驳道：“不可能，你要知道，命令行系统是顺序、阻塞的，图形界面则需要事件驱动、非阻塞的快速响应。修补会让系统极不稳定，效率低下，而且没办法实现多窗口並发管理。”
“我看，只能彻底放弃命令行架构了。”
“放弃之后呢？要怎么做？”
眾人又沉默下来，这次过了更久，还是没人说话。
这次大家是真没思路了，有的话不会等到这会儿。
眼看一直没人说话，徐卫国开口道：“都没人说，那就我来提个办法吧！”
他顿了顿，接著道：“可以將窗口、按钮这些界面元素抽象为对象，然后用模型—视图—控制器的设计模式分离逻辑跟显示————”
徐卫国说完，眾人反应各异，有的眼睛发亮，有的又拧眉思考起来。
过了一会儿，徐卫国问道：“谁还有要补充的吗？”
没人说话，大家看著徐卫国，此时心態各异。
每次都是这样，徐卫国每次都在大家碰到难以逾越的障碍时，轻而易举的把障碍踢开，然后领著他们继续往前走。
这就好像做数学卷子最后一题，你想了一个晚自习也没解决，折磨的心態爆炸。这时旁边学霸看了眼，隨口说出了解题思路。
对此，有的人觉得轻鬆，因为问题解决了，不会让他们彻夜难眠，也不会太过焦虑。但有的人却又觉得挫败，一方面失去了证明自己的机会，一方面也有面对实力差距时的无力感。
“没有补充的话，那就討论下一个问题。”徐卫国说道。
接下来的几个问题，依然是先让大家討论，谁有思路就赶紧说，都没思路的话就由徐卫国来解决。
毕竟，这些问题徐卫国已经让眾人思考了好些天，给了他们机会。还没有思路的话，为了不拖延研发进度，那就只能自己出手了。
早会只持续了半个小时就结束了，各小组领了任务，就回到各自岗位开始一天的工作。
徐卫国则提著一个保温杯，慢慢悠悠的走出实验室，开始今天的例行巡视。
这会儿已经入冬了，天气冷的刺骨，天上的太阳被云层笼罩著，只有一个轮廓，像一只没有温度的灯泡。
第一站是离得最近的光刻机实验室，自从步进投影式光刻机做出来之后，到现在光刻机能做到的特徵尺寸还是700纳米。
毕竟，这才过去了两年，在没有徐卫国全力推动的情况下，进步没那么快的。
不过，特徵尺寸没有进步，不代表製造的集成电路规模水平也不会进步。
事实上，至少有两种方法能提升电晶体集成规模。
一个是多重曝光技术。它的原理是通过多次曝光、刻蚀的循环，將一层复杂的电路拆分成多张更简单的图形，分次印刷到晶圆上，从而叠加出更高密度图案。
这种方式最高可以使特徵尺寸缩小一半。
当然，代价就是复杂程度跟成本大幅提高，属於不得已时用的邪招。
另一个方法，则是协同优化。通过改进光源、掩模版设计、光刻胶等因素，榨乾现有设备性能。
这也是一种更常用的办法，像后世的晶片製造企业，用同一套设备，晶片製程却能一直进步，多数就是走的这条路子。
徐卫国他们走的也是第二条路子，通过各分系统的改进，现在已经具备生產更大规模集成电路的能力了。
>
热闹过后，生活很快又归於平静。
微型计算机的研发工作已经紧锣密鼓的展开，推进速度比徐卫国预估的还要快。
原因很简单，团队成员都是新人，没有成绩，想获得认可，工作时自然就比其他人更拼一些。
而且他们基本都还没成家，住宿舍，下班之后也经常在一块討论技术问题。
这天上午，徐卫国来到实验室，先召集团队成员开早会，討论接下来的工作內容。这样的会议平均一周开一次，跟打怪升级似的，闯过一关，然后討论下一关怎么走。
徐卫国拿著一份整理好的文件，说道：“还是前几天的那几个问题，你们想了这么久，不能继续拖下去了。今天我们就来逐一討论。
首先是內存问题，因为字库占据了大部分內存，剩下的內存空间很紧张，而做图形界面的话，位图显示也是占內存的大户。怎么解决，大家都说一下吧！”
停顿了片刻，有人说道：“要不继续增加存储晶片？”
“这不行，七块存储晶片已经接近临界点，再继续增加，可靠性就没办法再保证了，故障率会大幅上升。而且每增加一块存储晶片，电路设计复杂度也会指数级上升，维护起来太难了。”
“开源不行，那就只能节流了！”
“这也很难————”
会议室里的眾人陷入沉默。所有人都在绞尽脑汁的想法子，虽然他们已经思考了好些天，多数人都没有思路，但如今临到跟前还是要努力一把。
这时，一个青年举手，说道：“我有个办法，不知道可行不可行。”
话落，他特意停顿了一下。
眾人心里直骂娘，说话真不爽快！
那青年清了清嗓子，缓声道：“咱们能不能设计专用的显示控制器？充许其直接访问显示內存来提升利用效率？”
“哎？————我看可行。”
被他这么一说，其他人的思路也瞬间打开。
“不只如此，我看还可以尝试让微处理器跟显示控制器共享同一块內存。”
“怎么说？”
“就是把显示区域划定在內存中的一个固定区域，就叫帧缓衝区吧，微处理器直接向该区域写入数据即可更新屏幕。”
“嗯，好办法！”
这时，徐卫国开口道：“对这个方案，谁有问题吗？”
没人说话。
“那就按这个方案执行。好，下面说第二个问题，是作业系统与软体架构方面的。图形界面的窗口管理、事件处理跟图形绘製，这些怎么实现？此外，我们需要提供图形编程接口供应用程式调用，这个要怎么做？”
又是一阵沉默后，有人试著说道：“能不能在命令行系统基础上打补丁？增加图形层？”
立刻有人反驳道：“不可能，你要知道，命令行系统是顺序、阻塞的，图形界面则需要事件驱动、非阻塞的快速响应。修补会让系统极不稳定，效率低下，而且没办法实现多窗口並发管理。”
“我看，只能彻底放弃命令行架构了。”
“放弃之后呢？要怎么做？”
眾人又沉默下来，这次过了更久，还是没人说话。
这次大家是真没思路了，有的话不会等到这会儿。
眼看一直没人说话，徐卫国开口道：“都没人说，那就我来提个办法吧！”
他顿了顿，接著道：“可以將窗口、按钮这些界面元素抽象为对象，然后用模型—视图—控制器的设计模式分离逻辑跟显示————”
徐卫国说完，眾人反应各异，有的眼睛发亮，有的又拧眉思考起来。
过了一会儿，徐卫国问道：“谁还有要补充的吗？”
没人说话，大家看著徐卫国，此时心態各异。
每次都是这样，徐卫国每次都在大家碰到难以逾越的障碍时，轻而易举的把障碍踢开，然后领著他们继续往前走。
这就好像做数学卷子最后一题，你想了一个晚自习也没解决，折磨的心態爆炸。这时旁边学霸看了眼，隨口说出了解题思路。
对此，有的人觉得轻鬆，因为问题解决了，不会让他们彻夜难眠，也不会太过焦虑。但有的人却又觉得挫败，一方面失去了证明自己的机会，一方面也有面对实力差距时的无力感。
“没有补充的话，那就討论下一个问题。”徐卫国说道。
接下来的几个问题，依然是先让大家討论，谁有思路就赶紧说，都没思路的话就由徐卫国来解决。
毕竟，这些问题徐卫国已经让眾人思考了好些天，给了他们机会。还没有思路的话，为了不拖延研发进度，那就只能自己出手了。
早会只持续了半个小时就结束了，各小组领了任务，就回到各自岗位开始一天的工作。
徐卫国则提著一个保温杯，慢慢悠悠的走出实验室，开始今天的例行巡视。
这会儿已经入冬了，天气冷的刺骨，天上的太阳被云层笼罩著，只有一个轮廓，像一只没有温度的灯泡。
第一站是离得最近的光刻机实验室，自从步进投影式光刻机做出来之后，到现在光刻机能做到的特徵尺寸还是700纳米。
毕竟，这才过去了两年，在没有徐卫国全力推动的情况下，进步没那么快的。
不过，特徵尺寸没有进步，不代表製造的集成电路规模水平也不会进步。
事实上，至少有两种方法能提升电晶体集成规模。
一个是多重曝光技术。它的原理是通过多次曝光、刻蚀的循环，將一层复杂的电路拆分成多张更简单的图形，分次印刷到晶圆上，从而叠加出更高密度图案。
这种方式最高可以使特徵尺寸缩小一半。
当然，代价就是复杂程度跟成本大幅提高，属於不得已时用的邪招。
另一个方法，则是协同优化。通过改进光源、掩模版设计、光刻胶等因素，榨乾现有设备性能。
这也是一种更常用的办法，像后世的晶片製造企业，用同一套设备，晶片製程却能一直进步，多数就是走的这条路子。
徐卫国他们走的也是第二条路子，通过各分系统的改进，现在已经具备生產更大规模集成电路的能力了。
>