第198章 国產EUV光源突破
重回1990：我的科技强国路 作者:佚名
第198章 国產EUV光源突破
华夏芯谷euv光源实验室的恆温车间里，空气仿佛被持续数年的高压凝成了固態。
巨大的二氧化碳雷射器阵列占据了半个厂房，发出低沉的嗡鸣，如同蛰伏的巨兽。
核心测试区的观察窗后，金秉洙博士双手紧握护栏，指节因用力而泛白，布满血丝的眼睛死死盯著主控屏幕上那条代表著生命线的绿色曲线，euv光源实时功率稳定度，此刻正顽强地停留在97.2%。
距离量產要求的98%仅一步之遥，这一步，却如同天堑。
“徐教授，情况不乐观！”
一位年轻工程师快步走到徐文渊身边，递上最新的检测报告，声音带著焦虑，
“连续运行四小时后，锡滴发生器喷嘴的錸铱鉭合金表面，出现了微观裂纹！锡滴喷射均匀度正在下降，等离子体稳定性受到影响！”
徐文渊接过报告，目光锐利地扫过扫描电镜图像上那些如同蛛网般蔓延的细微裂纹。
这位材料学泰斗眉头紧锁：
“我们目前的錸铱鉭合金，抗疲劳强度已是国內顶尖，但euv光源的环境太苛刻了，每秒数万次雷射轰击，瞬时温度超两万度，这对任何材料都是极限考验。而且……”
他顿了顿，语气沉重，
“我们通过特殊渠道获取的高纯度錸金属即將耗尽，后续批次国產錸的纯度，恐怕难以维持现有性能。”
林薇站在一旁，脸色凝重。
阿斯莫的封锁不仅限於整机，已蔓延至核心材料和部件。
“金博士，能否调整雷射参数？適当降低峰值功率，延长脉衝宽度，或许能减轻衝击？”
林薇提出设想。
金秉洙缓缓摇头，语气透著疲惫：
“我们试过了。能量一旦降低，euv输出功率就无法满足14nm工艺的光强需求。这是一个死循环，保性能，损部件；保部件，失性能。”
他看了一眼屏幕旁倒计时的红色数字，
“距离『天权5號』预定的流片窗口，只剩两周了。”
实验室里一片死寂，只有设备运行的嗡鸣，像是在为倒计时敲响丧钟。
就在这时，陈醒的身影出现在实验室门口。
他刚结束与“泛非项目”团队的跨洋会议，脸上带著旅途的疲惫，但眼神依旧清明锐利。
他没有寒暄，径直走到主控屏前，默默观察了十分钟那条起伏不定的曲线。
“问题的核心，是材料极限与能量平衡的矛盾。”
陈醒的声音打破了沉寂，清晰而冷静，
“我们不能在现有框架里打转，必须寻找新的突破点。徐教授，合金配方还有优化空间吗？比如引入新的元素，或者採用表层防护技术？”
陈醒的话让徐文渊眼中一亮：
“常规的合金强化路径我们已走到瓶颈。但如果採用原子层沉积技术，在喷嘴关键区域镀上一层纳米级的特殊保护膜，或许能极大延缓裂纹產生！只是这需要定製专用设备，工艺难度极高，时间……”
“设备和人，我来协调！不惜一切代价！”
陈醒果断拍板，隨即看向金秉洙，
“金博士，雷射轰击方式能否改变？既然单点衝击力过大，能否將一束光，分而治之？”
“分而治之？”
金秉洙微微一怔，隨即瞳孔收缩，
“您是说……採用微透镜阵列，將主雷射束分割成多个子束，实现多点同步轰击？”
“没错！分散衝击力，但保持总能量不变！甚至可能让锡滴汽化更均匀，提升等离子体稳定性！”
陈醒的思维极具跳跃性。
这个大胆的构想，如同在黑暗的迷宫中点亮了一盏灯！实验室的气氛瞬间被激活！
新的攻坚方向迅速確立。徐文渊团队立刻转向原子层沉积保护膜的研发与工艺验证，林薇协调国內顶尖精密製造企业，日夜赶製专用设备。
金秉洙团队则全力投入到微透镜阵列的光路设计、控制算法重写以及与光学供应商的紧急协同中。
时间以小时为单位流逝。挑战层出不穷。保护膜的厚度控制精度要求达到原子级別，过厚影响喷射，过薄则毫无作用；微透镜阵列的加工一致性要求极高，子束的能量均衡性调试更是繁琐到了极致。
团队成员们几乎住在实验室，方便麵箱子堆成了小山，每个人的眼窝都深陷下去，但眼神中的火焰却从未熄灭。这是一场与时间、与物理极限的赛跑。
七天后，首个集成了纳米保护膜和新式微透镜阵列的优化版锡滴发生器，被小心翼翼地安装到位。
设备启动。雷射束通过布满微小透镜的阵列，瞬间被分解成十六道更细的光束，如同精准的外科手术刀，从不同角度同步轰击在锡滴上。
主控屏幕上，那条原本总是带著细微抖动的绿色曲线，陡然间变得前所未有的平滑！
“功率稳定度……97.8%！”
操作员的声音因激动而变调，
“锡滴均匀度提升18%！初步预估喷嘴磨损速度下降超过35%！”
实验室里爆发出压抑的欢呼！但没有人放鬆，这还不是最终胜利。
徐文渊团队根据初步数据，连夜微调保护膜成分与厚度。
金秉洙团队则对十六个子束的能量配比进行精细化雕琢。
三天后，最终测试启动。
当设备稳定运行一小时后，稳定度曲线稳稳定格在98.3%！连续八小时耐力测试结束，数据显示：稳定度维持在98.1%至98.5%之间波动，衰减远低於0.5%的生死线！
成功了！
这一刻，实验室沸腾了！年轻的工程师们相拥而泣，年长的研究员们则红著眼眶，用力拍打著彼此的肩膀。
金秉洙与徐文渊两位教授紧紧握手，一切尽在不言中。数年心血，无数不眠之夜，终於换来了这打破垄断、自主可控的“华夏之光”！
林薇第一时间將捷报传回深城。
陈醒正在主持“天机云”的海外架构评审会，接到消息，他立刻暂停会议，深吸一口气，强压下心中的澎湃：
“立刻组织最终验收，確保万无一失！通知章宸和梁志远，『天权5號』14nm流片，按原计划，准时启动！”
然而，成功的喜悦还未散去，周明的加密通讯接了进来，带来了凛冽的寒意：
“陈总，阿斯莫通过其在欧洲的盟友，已经探测到我们的euv光源突破。他们正在华盛顿紧急游说，试图將我们的euv相关技术全部纳入管制清单。同时，宝积电也可能迫於压力，限制我们在先进封装技术上的合作。”
陈醒的眼神瞬间锐利如刀。封锁，从未停止，只会变本加厉。
“意料之中。”
陈醒语气冰冷，
“周明，密切监视，联合一切可以联合的力量，做好法律和外交层面的应对。林薇，euv整机集成项目立刻提速！同时，启动下一代更高功率、更高稳定度euv光源的预研，目標直指未来更先进的製程！”
当天下午，华夏芯谷举行了一场简朴而郑重的內部庆功会。
没有鲜花彩带，只有清茶一杯。陈醒看著台下这些面容憔悴却目光坚定的“追光者”，心潮起伏。
“同志们，euv光源的突破，是我们『追光计划』的一座里程碑！它证明了，没有什么技术壁垒是不可打破的！”
他的声音在车间里迴荡，
“但这，仅仅是开始！接下来，14nm流片是检验我们成果的关键一役，euv整机的自主集成是下一个必须攻克的堡垒！前路註定荆棘密布，但我相信，手握『华夏之光』的我们，必將一往无前！”
庆功会结束的哨音，也是下一场战役衝锋的號角。
章宸团队开始对“天权5號”的最终流片数据做最后一遍校验。
梁志远则带领工艺团队，在14nm实验线上进行著流片前的最后一次全流程工艺模擬。
然而，就在流片启动前夜的最终评审会上，梁志远指著一组数据，眉头紧锁：
“陈总，我们发现14nm finfet电晶体的閾值电压均匀性，在不同晶圆区域还有纳米级別的差异。虽然目前在规格范围內，但可能会影响最终晶片的极致性能和良率上限。”
所有人的目光再次聚焦到陈醒身上。
陈醒没有丝毫迟疑，目光扫过梁志远和章宸：
“成立临时攻坚组！梁志远，你负责工艺端，哪怕把工艺窗口再缩小一纳米，也要把均匀性给我提上来！章宸，你从设计端配合，看看能否通过设计-工艺协同优化，补偿这部分波动！流片计划不变，我们要用最完美的状態，迎接这场『大考』！”
夜色深沉，华夏芯谷的晶圆厂內依旧灯火通明。
euv光源的成功突破，为这片寂静的战场投下了最耀眼的光束。
而一场决定“天权5號”命运，乃至未来科技先进位程未来的流片之战，已进入最后的读秒阶段。
第198章 国產EUV光源突破
华夏芯谷euv光源实验室的恆温车间里，空气仿佛被持续数年的高压凝成了固態。
巨大的二氧化碳雷射器阵列占据了半个厂房，发出低沉的嗡鸣，如同蛰伏的巨兽。
核心测试区的观察窗后，金秉洙博士双手紧握护栏，指节因用力而泛白，布满血丝的眼睛死死盯著主控屏幕上那条代表著生命线的绿色曲线，euv光源实时功率稳定度，此刻正顽强地停留在97.2%。
距离量產要求的98%仅一步之遥，这一步，却如同天堑。
“徐教授，情况不乐观！”
一位年轻工程师快步走到徐文渊身边，递上最新的检测报告，声音带著焦虑，
“连续运行四小时后，锡滴发生器喷嘴的錸铱鉭合金表面，出现了微观裂纹！锡滴喷射均匀度正在下降，等离子体稳定性受到影响！”
徐文渊接过报告，目光锐利地扫过扫描电镜图像上那些如同蛛网般蔓延的细微裂纹。
这位材料学泰斗眉头紧锁：
“我们目前的錸铱鉭合金，抗疲劳强度已是国內顶尖，但euv光源的环境太苛刻了，每秒数万次雷射轰击，瞬时温度超两万度，这对任何材料都是极限考验。而且……”
他顿了顿，语气沉重，
“我们通过特殊渠道获取的高纯度錸金属即將耗尽，后续批次国產錸的纯度，恐怕难以维持现有性能。”
林薇站在一旁，脸色凝重。
阿斯莫的封锁不仅限於整机，已蔓延至核心材料和部件。
“金博士，能否调整雷射参数？適当降低峰值功率，延长脉衝宽度，或许能减轻衝击？”
林薇提出设想。
金秉洙缓缓摇头，语气透著疲惫：
“我们试过了。能量一旦降低，euv输出功率就无法满足14nm工艺的光强需求。这是一个死循环，保性能，损部件；保部件，失性能。”
他看了一眼屏幕旁倒计时的红色数字，
“距离『天权5號』预定的流片窗口，只剩两周了。”
实验室里一片死寂，只有设备运行的嗡鸣，像是在为倒计时敲响丧钟。
就在这时，陈醒的身影出现在实验室门口。
他刚结束与“泛非项目”团队的跨洋会议，脸上带著旅途的疲惫，但眼神依旧清明锐利。
他没有寒暄，径直走到主控屏前，默默观察了十分钟那条起伏不定的曲线。
“问题的核心，是材料极限与能量平衡的矛盾。”
陈醒的声音打破了沉寂，清晰而冷静，
“我们不能在现有框架里打转，必须寻找新的突破点。徐教授，合金配方还有优化空间吗？比如引入新的元素，或者採用表层防护技术？”
陈醒的话让徐文渊眼中一亮：
“常规的合金强化路径我们已走到瓶颈。但如果採用原子层沉积技术，在喷嘴关键区域镀上一层纳米级的特殊保护膜，或许能极大延缓裂纹產生！只是这需要定製专用设备，工艺难度极高，时间……”
“设备和人，我来协调！不惜一切代价！”
陈醒果断拍板，隨即看向金秉洙，
“金博士，雷射轰击方式能否改变？既然单点衝击力过大，能否將一束光，分而治之？”
“分而治之？”
金秉洙微微一怔，隨即瞳孔收缩，
“您是说……採用微透镜阵列，將主雷射束分割成多个子束，实现多点同步轰击？”
“没错！分散衝击力，但保持总能量不变！甚至可能让锡滴汽化更均匀，提升等离子体稳定性！”
陈醒的思维极具跳跃性。
这个大胆的构想，如同在黑暗的迷宫中点亮了一盏灯！实验室的气氛瞬间被激活！
新的攻坚方向迅速確立。徐文渊团队立刻转向原子层沉积保护膜的研发与工艺验证，林薇协调国內顶尖精密製造企业，日夜赶製专用设备。
金秉洙团队则全力投入到微透镜阵列的光路设计、控制算法重写以及与光学供应商的紧急协同中。
时间以小时为单位流逝。挑战层出不穷。保护膜的厚度控制精度要求达到原子级別，过厚影响喷射，过薄则毫无作用；微透镜阵列的加工一致性要求极高，子束的能量均衡性调试更是繁琐到了极致。
团队成员们几乎住在实验室，方便麵箱子堆成了小山，每个人的眼窝都深陷下去，但眼神中的火焰却从未熄灭。这是一场与时间、与物理极限的赛跑。
七天后，首个集成了纳米保护膜和新式微透镜阵列的优化版锡滴发生器，被小心翼翼地安装到位。
设备启动。雷射束通过布满微小透镜的阵列，瞬间被分解成十六道更细的光束，如同精准的外科手术刀，从不同角度同步轰击在锡滴上。
主控屏幕上，那条原本总是带著细微抖动的绿色曲线，陡然间变得前所未有的平滑！
“功率稳定度……97.8%！”
操作员的声音因激动而变调，
“锡滴均匀度提升18%！初步预估喷嘴磨损速度下降超过35%！”
实验室里爆发出压抑的欢呼！但没有人放鬆，这还不是最终胜利。
徐文渊团队根据初步数据，连夜微调保护膜成分与厚度。
金秉洙团队则对十六个子束的能量配比进行精细化雕琢。
三天后，最终测试启动。
当设备稳定运行一小时后，稳定度曲线稳稳定格在98.3%！连续八小时耐力测试结束，数据显示：稳定度维持在98.1%至98.5%之间波动，衰减远低於0.5%的生死线！
成功了！
这一刻，实验室沸腾了！年轻的工程师们相拥而泣，年长的研究员们则红著眼眶，用力拍打著彼此的肩膀。
金秉洙与徐文渊两位教授紧紧握手，一切尽在不言中。数年心血，无数不眠之夜，终於换来了这打破垄断、自主可控的“华夏之光”！
林薇第一时间將捷报传回深城。
陈醒正在主持“天机云”的海外架构评审会，接到消息，他立刻暂停会议，深吸一口气，强压下心中的澎湃：
“立刻组织最终验收，確保万无一失！通知章宸和梁志远，『天权5號』14nm流片，按原计划，准时启动！”
然而，成功的喜悦还未散去，周明的加密通讯接了进来，带来了凛冽的寒意：
“陈总，阿斯莫通过其在欧洲的盟友，已经探测到我们的euv光源突破。他们正在华盛顿紧急游说，试图將我们的euv相关技术全部纳入管制清单。同时，宝积电也可能迫於压力，限制我们在先进封装技术上的合作。”
陈醒的眼神瞬间锐利如刀。封锁，从未停止，只会变本加厉。
“意料之中。”
陈醒语气冰冷，
“周明，密切监视，联合一切可以联合的力量，做好法律和外交层面的应对。林薇，euv整机集成项目立刻提速！同时，启动下一代更高功率、更高稳定度euv光源的预研，目標直指未来更先进的製程！”
当天下午，华夏芯谷举行了一场简朴而郑重的內部庆功会。
没有鲜花彩带，只有清茶一杯。陈醒看著台下这些面容憔悴却目光坚定的“追光者”，心潮起伏。
“同志们，euv光源的突破，是我们『追光计划』的一座里程碑！它证明了，没有什么技术壁垒是不可打破的！”
他的声音在车间里迴荡，
“但这，仅仅是开始！接下来，14nm流片是检验我们成果的关键一役，euv整机的自主集成是下一个必须攻克的堡垒！前路註定荆棘密布，但我相信，手握『华夏之光』的我们，必將一往无前！”
庆功会结束的哨音，也是下一场战役衝锋的號角。
章宸团队开始对“天权5號”的最终流片数据做最后一遍校验。
梁志远则带领工艺团队，在14nm实验线上进行著流片前的最后一次全流程工艺模擬。
然而，就在流片启动前夜的最终评审会上，梁志远指著一组数据，眉头紧锁：
“陈总，我们发现14nm finfet电晶体的閾值电压均匀性，在不同晶圆区域还有纳米级別的差异。虽然目前在规格范围內，但可能会影响最终晶片的极致性能和良率上限。”
所有人的目光再次聚焦到陈醒身上。
陈醒没有丝毫迟疑，目光扫过梁志远和章宸：
“成立临时攻坚组！梁志远，你负责工艺端，哪怕把工艺窗口再缩小一纳米，也要把均匀性给我提上来！章宸，你从设计端配合，看看能否通过设计-工艺协同优化，补偿这部分波动！流片计划不变，我们要用最完美的状態，迎接这场『大考』！”
夜色深沉，华夏芯谷的晶圆厂內依旧灯火通明。
euv光源的成功突破，为这片寂静的战场投下了最耀眼的光束。
而一场决定“天权5號”命运，乃至未来科技先进位程未来的流片之战，已进入最后的读秒阶段。